Retix.C Ultra Repair Nano-Mask EctoHyal Complex 3.0 – profesjonalna maska pozabiegowa

Retix.C Ultra Repair Nano-Mask EctoHyal Complex 3.0 to profesjonalna maska pozabiegowa przeznaczona do intensywnego nawilżania, ukojenia i regeneracji skóry twarzy. Dzięki formule opartej na EctoHyal Complex 3.0, łączącym trzy formy kwasu hialuronowego i ektoinę, maska pomaga przywrócić skórze komfort, zmniejszyć uczucie ściągnięcia oraz ograniczyć widoczność zaczerwienień.

Efekt „drugiej skóry”

Nano-maska idealnie przylega do powierzchni skóry, tworząc wrażenie jej przedłużenia. Takie dopasowanie zapewnia komfort podczas aplikacji i pozwala składnikom aktywnym skutecznie wspierać skórę wymagającą intensywnego nawilżenia i ukojenia.

Moc nawilżenia i ukojenia

Formuła zawiera EctoHyal Complex 3.0, w skład którego wchodzą składniki o właściwościach nawilżających i ochronnych. Kwas hialuronowy pomaga zwiększyć nawilżenie i poprawić jędrność skóry, natomiast ektoina wspiera jej ochronę, działa kojąco i pomaga zapobiegać przesuszeniu.

Dodatkowym składnikiem jest bisabolol, pozyskiwany z rumianku lekarskiego, znany ze swoich właściwości łagodzących i wspierających regenerację naskórka.

Zastosowanie

Maska rekomendowana jest w celu:

• intensywnego nawilżenia skóry,
• złagodzenia podrażnień,
• ukojenia skóry,
• redukcji zaczerwienienia,
• zmniejszenia uczucia ściągnięcia.

Sposób użycia

Po wykonanym zabiegu nałożyć maskę na całą powierzchnię skóry twarzy, dbając o jej dokładne przyleganie. Pozostawić na 20 minut, następnie usunąć i delikatnie wmasować pozostałą część produktu.

Obszar stosowania: twarz
Opakowanie: 1 × 15 ml